光刻胶检测

光刻胶检测

光刻胶,也称为光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,能够在紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射下发生溶解度变化,通过曝光、显影等光刻工序将所需的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。中科检测提供光刻胶检测服务,检测报告具有CMA资质。
我们的服务 工业材料 光刻胶检测

光刻胶 检测介绍

光刻胶,也称为光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,能够在紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射下发生溶解度变化,通过曝光、显影等光刻工序将所需的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。光刻胶主要成分包括增感剂(光引发剂)、感光树脂(聚合剂)、溶剂与助剂,这些成分共同决定了光刻胶的感光度、分辨率、硬度、柔韧性等基本属性。

光刻胶的应用范围广泛,主要涉及集成电路、显示、PCB等领域,是光刻工艺的核心材料。在半导体集成电路制造行业,光刻胶用于超过十次的光刻过程中,将电路图案转移到硅片上。

中科检测是专业的光刻胶检测机构,可开展光刻胶检测服务。  

光刻胶 检测范围

光刻胶可以分为光聚合型、光分解型、光交联型和化学放大型。
1、光聚合型光刻胶采用烯类单体,在光作用下生成自由基,引发单体聚合反应生成聚合物。
2、光分解型光刻胶,采用含有重氮醌类化合物(DQN)材料作为感光剂,其经过光照后,发生光分解反应。
3、光交联型光刻胶采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,形成不溶性的网状结构,起到抗蚀作用。
4、化学放大型光刻胶采用难以溶解的聚乙烯树脂,使用光致酸剂(PAG)作为光引发剂。

光刻胶 检测项目

理化性能:固含量、粘度、留膜率、薄膜厚度、粘附力等
可靠性能:耐化学性能、耐溶剂冲击性、溶解性、耐化学性、耐腐蚀性能等
光学性能:色度、辉度、对比度测试、显影速度、曝光度等  

光刻胶 检测标准

GB/T 43793.1-2024 平板显示用彩色光刻胶测试方法 第1部分:理化性能
GB/T 43793.2-2024 平板显示用彩色光刻胶测试方法 第2部分:光学性能
GB/T 43793.3-2024 平板显示用彩色光刻胶测试方法 第3部分:可靠性
GB/T 31370.1-2015 平板显示器(FPD)彩色滤光片测试方法 第1部分:颜色和透光率
GB/T 31370.4-2015 平板显示器(FPD)彩色滤光片测试方法 第4部分:耐化学性
IPC MI-660 5.3-1984 干电影光刻胶
GOST R 52250-2004 电子工程材料.光刻工艺抗蚀剂.通用规范  


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